電磁界同時測定（オプション）

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概要

近年、デジタル機器の普及により、電子機器は高機能化する一方で、EMI対策が重要となっております。電子機器設計時のEMI解析が必要不可欠となっており、「EMV-200」による至近距離磁界測定は業界で好評を頂いております。しかし電界や磁界の強度分布を測定する場合、従来は個別の測定プローブを準備する必要があるため、実際の解析では磁界測定にとどまっていました。このため電磁界同時測定のニーズが高まっていました。 今回、当社は、太陽誘電株式会社との技術提携による電磁界同時測定可能なプローブと「EMV-200」用の専用ソフトを開発し、電界と磁界を同時に測定する「電磁界同時測定オプション」を実用化しました。

電界と磁界の分離原理

電界と磁界の分離原理は、測定プローブと試料間の静電結合により発生する電流（電界と比例）と電磁誘導により発生する電流（磁界）とを演算することで、それぞれの強度を測定可能にするものです。

磁界は、測定試料に流れる電流に比例した電磁誘導による電流Imを求める。
Im=(I1-I2)/2

電界は、測定試料の電圧に比例した静電結合による電流Ieを求める。
Ie=(I1+I2)/2